脈沖激光沉積的特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)介紹
更新時(shí)間：2020-07-14 點(diǎn)擊次數(shù)：1523
脈沖激光沉積是將激光聚焦于靶材上一個(gè)較小的面積，利用激光的高能量密度將部分靶材料蒸發(fā)甚至電離，使其能夠脫離靶材而向基底運(yùn)動(dòng)，進(jìn)而在基底上沉積，從而形成薄膜的一種方式。
在眾多的薄膜制備方法中，激光沉積技術(shù)的應(yīng)用較為廣泛，可用來(lái)制備金屬、半導(dǎo)體、氧化物、氮化物、碳化物、硼化物、硅化物、硫化物及氟化物等各種物質(zhì)薄膜，甚至還用來(lái)制備一些難以合成的材料膜，如金剛石、立方氮化物膜等。
脈沖激光沉積系統(tǒng)配置：生長(zhǎng)室，進(jìn)樣室可選；水平、垂直兩種靶臺(tái)可選；激光加熱和輻射加熱兩種樣品臺(tái)可選，激光加熱溫度1200℃；工藝氣路可以任意搭配；其它可選項(xiàng)如臭氧發(fā)生器，離子源，掩膜系統(tǒng)等。
脈沖激光沉積系統(tǒng)特點(diǎn)及優(yōu)勢(shì)：可根據(jù)客戶需求定制產(chǎn)品，靈活性高，并提供專業(yè)的技術(shù)支持；靶臺(tái)可以安裝6個(gè)靶位，靶材更換靈活；樣品臺(tái)樣品尺寸從10x10mm樣品到2英寸樣品均適用；進(jìn)樣室可以存儲(chǔ)多個(gè)靶和樣品。
特點(diǎn)：1.系統(tǒng)可根據(jù)客戶的特殊要求設(shè)計(jì)，操作簡(jiǎn)單方便，可使用大尺寸靶材生長(zhǎng)大面積薄膜；
2.電拋光腔體，主腔呈方形，其前部是鉸鏈門，方便更換基底和靶材；
3.雙軸磁性耦合旋轉(zhuǎn)靶材操縱器，可手動(dòng)或計(jì)算機(jī)控制選定靶材。磁力桿傳送基底到基底旋轉(zhuǎn)器上，可手動(dòng)或電動(dòng)降低旋轉(zhuǎn)器，實(shí)現(xiàn)簡(jiǎn)單快速地更換；
4.主腔室預(yù)留備用的腔口，如用于觀察靶材和基底，安裝原子吸收或發(fā)射光譜儀、原位橢偏儀、離子槍或磁控濺射源、殘留氣體分析器和離子探針或其他的元件等等。
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