有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng)

有機(jī)分子束沉積鍍膜系統(tǒng)

儀器簡介：

全球?qū)I(yè)的沉積設(shè)備制造商，為各個(gè)領(lǐng)域的客戶提供*的薄膜沉積解決方案：電子束蒸發(fā)系統(tǒng)、熱蒸發(fā)系統(tǒng)、超高真空蒸發(fā)系統(tǒng)、分子束外延MBE、有機(jī)分子束沉積OMBD、等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積系統(tǒng)PECVD/ICP Etcher、電子回旋共振等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積、離子泵等

技術(shù)參數(shù)：

1.蒸鍍源Cell&電源：
?有機(jī)金屬沉積蒸鍍Cell
--最大溫度: 500℃
--坩堝容積和材料: 2~200 cc and Quartz, Graphite,etc
--包含Shutter and Cooling shroud (選件)
--電源:15A, 20V
--溫度控制: PID control
?金屬沉積蒸鍍Cell
--最大溫度: 1,400℃(up to 1,800 ℃)
--坩堝容積和材料: 2~120 cc and Al2O3, BN, PBN, etc
?包括shutter和Cooling shroud
?電源: 30A, 80V
?溫度控制：ntrol : PID control

2.薄膜沉積控制：
?Cygnus and PC控制
--控制沉積參數(shù)
----多達(dá)6源同時(shí)沉積
--石英晶體振蕩器
----一個(gè), 兩個(gè)或六個(gè)
?膜厚測量
--石英晶體振蕩器
----一個(gè), 兩個(gè)或六個(gè)

3.真空室：
?圓柱形腔體
--直徑: φ300 ~ 1,000 mm (Substrate : 1 inch to 370 ×400 mm)
-- 高度: 300 ~ 700 mm
?方形腔體
--根據(jù)客戶需求定制

4.真空泵和測量裝置：
?低真空: 干泵和convectron真空規(guī)
?高真空: 渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī)
?超高真空: 離子泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng)：PLC, PC with Touch Screen

主要特點(diǎn)：

擴(kuò)展功能：
?溫度控制器：基底加熱
?He cooling 裝置：基底冷卻
?LN2or CW 冷卻系統(tǒng)
?傳遞單元：樣品傳遞在有機(jī)和金屬處理時(shí)
?帶自動樣品遞送裝置的Loadlock樣品加載系統(tǒng)