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簡要描述：臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：1，研發(fā)級R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異2，具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求3，高效的沉積速率，鍍膜時(shí)間快4， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的工具
產(chǎn)品型號：廠商性質(zhì)：代理商更新時(shí)間：2026-06-16訪 問 量：2783詳細(xì)介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 電子/電池,電氣,綜合 |
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臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀
該系統(tǒng)可以作為以下功能裝置：
1，研發(fā)級R&D鍍膜設(shè)備，性能優(yōu)異
2，具備所有研發(fā)級別的鍍膜要求
3，高效的沉積速率，鍍膜時(shí)間快
4， 實(shí)驗(yàn)室中培訓(xùn)的最工具
臺(tái)式磁控濺射鍍膜儀
主要的特點(diǎn)和先進(jìn)的功能：
1， 臺(tái)式，小型，快速
2，全自動(dòng)化程序控制
3，單靶或多靶聯(lián)合濺射鍍膜，多路氣體管路
4，共聚焦設(shè)計(jì)，靶槍尺寸：2英寸，3英寸，4英寸，襯底可做到200mm，旋轉(zhuǎn)1-20RPM，以及Load-lock配置
5，配置干泵+分子泵，可達(dá)高真空，適用高品質(zhì)薄膜沉積。
6， 可做直流濺射，射頻濺射，100W射頻偏壓（用于襯底表面清洗）
性能價(jià)格比高！！
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