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脈沖激光沉積系統(tǒng)

簡要描述:脈沖激光沉積系統(tǒng),基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉,工作環(huán)境最大壓力是300mtorr。

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  • 廠商性質:代理商
  • 更新時間:2025-12-04
  • 訪  問  量:297

詳細介紹

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應用領域綜合

脈沖激光沉積系統(tǒng)

(Pulse Laser Deposition System)

原產國:美國

PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)介紹:

PLD是將脈沖激光透過合成石英窗導入真空腔內照射到成膜靶上,靶被照射后吸收高密度能量而形成的plume狀等離子體狀態(tài),然后被堆積到設在對面的基板上而成膜。PLD方法可以獲得擁有熱力學理論上準穩(wěn)定狀態(tài)的組成和構造的人工合成新材料。

我們PLD系統(tǒng)擁有較好的性能價比,具體技術參數(shù)配置:

1.靶: 數(shù)量6個,大小1-2英寸,被激光照射時可自動旋轉,靶的選擇可通過步進電機控制;

2.基板:采用適合于氧氣環(huán)境鉑金加熱片,大小2英寸,加熱溫度可達1200攝氏度,溫度差<3%,加熱時基板可旋轉,工作環(huán)境最大壓力是300mtorr;

3.基板加熱電源,最高到1200度;

4.超高真空成膜室腔體:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-8 pa;

5.樣品搬運室:不銹鋼sus304材質,內表面電解拋光,本底真空度<5e-5 pa;

6.排氣系統(tǒng):分子泵和干式機械泵;

7.閥門: 采用超高真空擋板閥;

8.真空檢測:真空計;

9.氣路兩套: 采用氣體流量計控制;

10.薄膜生長監(jiān)控系統(tǒng): 采用掃描型差分RHEED;

11.監(jiān)控軟件系統(tǒng):基板溫度的監(jiān)控和設定,基板和靶的旋轉,靶的更換等;

12.各種電流導入及測溫端子;

13.其它各種構造:各種超高真空位移臺,磁力傳輸桿,超高真空法蘭,超高真空密封墊圈,超高真空用波紋管等;

用戶用最少的錢買到研究級高性能的純進口PLD系統(tǒng)。

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