沉積技術(shù)專業(yè)知識，我們提供緩沖層沉積、外延生長和HTS薄膜制造的完整交鑰匙解決方案。我們的系統(tǒng)支持研發(fā)規(guī)模開發(fā)和大批量生產(chǎn)環(huán)境，服務(wù)于全球優(yōu)異的超導(dǎo)體制造商、國家實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)。

卷對卷脈沖激光沉積系統(tǒng) 高溫超導(dǎo)帶材鍍膜特點(diǎn)與優(yōu)勢：

1. 優(yōu)異的工藝精度與控制能力

• 高精度溫度控制：配備7區(qū)單獨(dú)溫控的SiC加熱系統(tǒng)，基帶表面溫度可達(dá)900℃，確保外延生長的高質(zhì)量與一致性。

• 穩(wěn)定的張力與速度控制：閉環(huán)控制帶材張力與傳輸速度，在40–60米/小時(shí)工藝區(qū)間內(nèi)速度精度可達(dá)±1米/小時(shí)，保障長帶材沉積的均勻性。

• 靈活的靶材與羽流管理：雙10英寸靶材配置，支持?jǐn)[動(dòng)與定位編程，結(jié)合多羽流沉積能力，實(shí)現(xiàn)復(fù)雜成分與多層結(jié)構(gòu)的高效沉積。

2. 可靠的量產(chǎn)級工程設(shè)計(jì)

• 高真空與潔凈環(huán)境：腔體采用鏡面拋光不銹鋼，極限真空達(dá)5×10?? Torr，配備1400 L/s大抽速分子泵組，確保工藝環(huán)境純凈。

• 強(qiáng)化的熱管理與可靠性：全水冷腔體設(shè)計(jì)、水冷靶材保護(hù)板及加熱器背板冷卻，保障系統(tǒng)長時(shí)間連續(xù)穩(wěn)定運(yùn)行。

• 模塊化與可擴(kuò)展性：系統(tǒng)支持與磁控濺射、IBAD、蒸發(fā)等多種沉積模塊集成，提供從緩沖層到超導(dǎo)層的完整交鑰匙解決方案。

3. 智能化自動(dòng)化操作

• 全計(jì)算機(jī)集成控制：通過中心控制軟件實(shí)現(xiàn)沉積流程、溫度、速度、真空、氣體的全自動(dòng)控制與監(jiān)控。

• 安全的程序化邏輯：具備定時(shí)、定長自動(dòng)停車功能，集成激光快門、溫度聯(lián)鎖等多重安全保護(hù)。

• 便捷的維護(hù)與調(diào)整：靶材距離手動(dòng)可調(diào)，帶材間距通過標(biāo)準(zhǔn)墊圈快速更換（1/1.5/2 mm可選），維護(hù)窗口設(shè)計(jì)合理。

4. 優(yōu)異的性價(jià)比與生產(chǎn)柔性

• 優(yōu)化的靶材利用率：靶材可旋轉(zhuǎn)與擺動(dòng)，提升利用率，降低耗材成本。

• 適應(yīng)多種帶寬：兼容12 mm寬基帶，通過多帶并行設(shè)計(jì)（可5條）提高單次生產(chǎn)吞吐量。

• 兼顧研發(fā)與生產(chǎn)：系統(tǒng)既可滿足工藝開發(fā)的高精度要求，也能支持高達(dá)500米/小時(shí)的高速量產(chǎn)模式。

提供多種高溫超導(dǎo)帶材PLD沉積系統(tǒng)。主要包括以下內(nèi)容：

用于REBCO和緩沖層的PLD沉積系統(tǒng)，多重傳遞系統(tǒng)，黑體基材加熱器，閉環(huán)張力與速度控制，多羽流能力，多區(qū)加熱器。

主要用于以卷繞方式在百米級別金屬基帶上沉積REBCO涂層導(dǎo)體，此設(shè)備由一個(gè)帶左右卷軸室、中心沉積室的脈沖激光沉積（PLD）系統(tǒng)組成。不包括激光設(shè)備（準(zhǔn)分子-激光器）和光學(xué)箱。加熱溫度范圍為150 mm x 5個(gè)

膠帶（64 mm至68 mm，取決于膠帶間距）。膠帶寬度為12mm。

卷對卷脈沖激光沉積系統(tǒng) 高溫超導(dǎo)帶材鍍膜技術(shù)規(guī)格：

沉積室

1單腔室

沉積室容器：H1100 mm x W 1200 mm x D600 mm（±5 mm）

圓柱形卷筒室容器：直徑750 mm x D500 mm（對稱，±5 mm）

以上尺寸不包括光學(xué)側(cè)、控制臺等。

1）材質(zhì)：不銹鋼（SUS304），表面拋光（鏡面拋光）

2）冷卻水路：沉積室的頂部、底部、前側(cè)和后側(cè)。

3）沉積室端口

頂部：ICF253、ICF114、ICF70和ISO-F，用于安裝主泵、旁路泵、電氣線路、熱電偶等。

兩側(cè)：ICF152用于觀察窗口。

正面：一個(gè)帶手動(dòng)快門的ICF152觀察窗口

4） 卷筒室端口

兩側(cè)：ICF152用于觀察窗口

背面：卷軸接入法蘭、編碼器接入法蘭，

2 基板加熱器部件

1）基帶表面溫度：900℃

2）SiC加熱器形狀；

U形圓棒形狀；

兩端均與電端子相連；

加熱器使用5個(gè)長加熱器和4個(gè)短加熱器。

3）加熱背板：水冷卻。

4）基帶-靶材距離：45mm-100mm

基帶-靶材距離調(diào)整方式：打開腔室門，手動(dòng)操作沉積室頂部的手柄進(jìn)行上下調(diào)整。

5）溫度控制器：至少包含7個(gè)溫度控制部分。

6）下側(cè)轉(zhuǎn)向輥：一側(cè)有5個(gè)輪子。

• 直徑150mm；

• 對基帶的接觸面進(jìn)行電拋光，以提高平整度；

• 基帶間距：1mm（單面法蘭）；

• 基帶之間的基本間距為1毫米，但通過更換安裝在每個(gè)卷軸和輥?zhàn)又Ъ苌系拈g隔環(huán)，間距可以改為1.5毫米或2毫米。這些1.5mm和2mm的間隔環(huán)已連接；

• 該輥與基帶加熱機(jī)構(gòu)集成在一起，一起上下移動(dòng)。

8）上側(cè)轉(zhuǎn)向輥，帶輔助驅(qū)動(dòng)：單側(cè)有4個(gè)輪子。

與上述相同，對基帶的接觸面進(jìn)行電拋光。

伺服電機(jī)安裝在腔室后部大氣側(cè)的左右兩側(cè)。伺服電機(jī)的旋轉(zhuǎn)力可以通過鎖定單側(cè)的任何一個(gè)滾輪傳遞。

3 靶材部件

1）靶材尺寸：直徑10英寸

2）靶材數(shù)量：2個(gè)

3）靶材夾具的設(shè)計(jì)：一個(gè)放置靶材的板和一個(gè)安裝在底部的U形夾具。

4）靶材轉(zhuǎn)速：速度控制電機(jī)

5）靶材定位：伺服電機(jī)。程序可以移動(dòng)靶材以擺動(dòng)并設(shè)置更換位置。靶材擺動(dòng)程序可以從中心對稱擺動(dòng)到兩端。也可以非對稱地進(jìn)行設(shè)置。

6）靶材保護(hù)板：靶材上的水冷板?？烧{(diào)激光輸入狹縫板，四個(gè)方向的孔徑調(diào)整范圍。

4 卷對卷部件

1）卷筒直徑：外徑420mm（有效卷繞直徑400mm）

內(nèi)徑：100mm

2）帶材移動(dòng)：左右卷軸機(jī)制相同

帶材速度由編碼器讀數(shù)控制。

3）帶材移動(dòng)速度：500米/小時(shí)

在40-60m/h的速度下，精度提高到+/-1米/小時(shí)。

4）帶材張力：卷繞側(cè)為大張力值。

另一側(cè)設(shè)定較低的張力值，保持張力進(jìn)行剝離。

5）張力監(jiān)測器：在5轉(zhuǎn)輥的左端和右端，設(shè)定的張力值反饋給卷軸驅(qū)動(dòng)器中的離合器。

5 工藝氣體和真空泵組

1）工藝氣體：氧氣，2路，2個(gè) MFC（500sccm）。

2）排氣管線：氮?dú)饣蛑苯訌拇髿庖?/span>

3）基壓：5x10-7Torr

4）分子泵:1400L/s（軸承型）

5）旋轉(zhuǎn)泵：1083L/min

6）泵管道：具有以下3條管道，根據(jù)情況切換。

• 主泵管道：氣動(dòng)開/關(guān)閘閥，使用與分子泵相同的ICF253閘閥。

• 工藝泵管道（旁路）：壓力控制蝶閥

• 粗泵管道，該管道從大氣壓力開始。

7）真空計(jì)：用于過程控制壓力的電容式壓力計(jì) （133Pa/1Torr 范圍）

電容壓力計(jì)，用于工藝控制壓力（133Pa/1Torr范圍）

全量程壓力計(jì)，用于從大氣到基壓。

熱電偶壓力計(jì)，用于粗泵管道。

6 控制支架

1）該系統(tǒng)需要兩個(gè)控制架。主要是加熱器電源單元。

2）一個(gè)PC控制

3）定時(shí)程序：可以設(shè)置時(shí)間或帶材長度，并在以下功能自動(dòng)停止時(shí)進(jìn)行控制：

• 關(guān)閉激光器

• 為安全停止而降低基片加熱

• 停止氧氣流量

7 激光光學(xué)系統(tǒng)

1）帶窗聚焦透鏡

透鏡尺寸：直徑140mm，曲率半徑R=760mm。

聚焦透鏡也用作真空和大氣之間的密封窗口。

窗口的位置可調(diào)節(jié)范圍為+/- 50mm。

有效內(nèi)徑為120mm。

包括4個(gè)備用透鏡。

2）系統(tǒng)包括兩個(gè)激光掃描光學(xué)元件。

與308nm波長（XeCl）相對應(yīng)的掃描鏡。

3）掃描鏡安裝支架

雙軸α、β軸旋轉(zhuǎn)臺。

4）光學(xué)盒

材質(zhì)：鋁和亞克力。

在光學(xué)接入側(cè)設(shè)有聯(lián)鎖面板。

5）激光快門

位于激光器前面的氣動(dòng)快門。

6）反射接收板：用于接收激光的反射

7）激光光束高度：1400mm

我們不僅提供一臺設(shè)備，更提供從工藝?yán)斫狻⑾到y(tǒng)設(shè)計(jì)、安裝調(diào)試到持續(xù)支持的全價(jià)值鏈服務(wù)。我們的系統(tǒng)已在全球超導(dǎo)企業(yè)、國家實(shí)驗(yàn)室和研究機(jī)構(gòu)穩(wěn)定運(yùn)行，見證了從米級短樣到公里級長帶的產(chǎn)業(yè)突破。