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MDE-200SC全自動光刻機是一款MIDAS公司新開發(fā)的產(chǎn)品，代表了下一代全區(qū)域光刻系統(tǒng)。這一新型半自動化對準曝光平臺具有更高的重復光刻精度以及更可靠的操作，非常適合陶瓷及其他探針卡應用，同時MDA-12SA型半動化光罩對準曝光機具有更高的生產(chǎn)能力和容易操控。

MDA-80MS光刻機產(chǎn)地：韓國MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍寶石襯底（PSS）光刻機，高性價比。

SPIN-3000A勻膠機適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

MDA-40FA/60F光刻機，操作簡單，PLC操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個程序配方，顯微鏡位置控制系統(tǒng)，自動對齊標記搜索功能。

MINILAB勻膠顯影熱板系統(tǒng)，組成：旋涂機（Spin-1200T）、熱板、D.I水系統(tǒng)。尺寸：1300（寬）*750（深）*1800（高）。

THU SERIES納米壓印，科睿設備有限公司有幸成長在這個火熱的年代，我們愿意化為一座橋梁，見證中國科技水平的提升，與中國科技共同飛速成長。

SPIN-5000/70勻膠機，適用于半導體、硅片、晶片、基片、導電玻璃及制版等表面涂覆工藝, 可在工礦企業(yè)、科研、教育等單位作生產(chǎn)、科研、教學之用。勻膠機可以用于制作低于10nm厚度的薄膜,并且在清洗和刻蝕中也被廣泛使用。

MDA-400M-6光刻機，廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域；該公司是目前將光刻機商品化的公司之一，擁有雄厚的技術研發(fā)力量和設備生產(chǎn)能力；并且其設備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術、工藝和良好的服務，贏得了用戶的青睞。