光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以?xún)?yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

MDA-12SA光刻機(jī)產(chǎn)地：韓國(guó)MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性?xún)r(jià)比
型號(hào)：MDA-12SA

MDA-12SA光刻機(jī)操作簡(jiǎn)單，可編程控制器（PLC）操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個(gè)程序配方，電動(dòng)操縱桿控制，電動(dòng)變焦顯微鏡和工作臺(tái)，顯微鏡位置控制系統(tǒng)

•操縱桿控制，半自動(dòng)

•掩模版尺寸高達(dá)14英寸

•基板尺寸8~12英寸

•均勻光束尺寸13.25*13.25英寸

•紫外線光源：紫外線燈，2 kW，5 kW

•光束波長(zhǎng)：350~450 nm

•光束均勻性：<±5%

•365 nm強(qiáng)度：2 kW:~25 mW/?，5 kW:~45 mW/?

•定位方法：操縱桿控制，半自動(dòng)

•對(duì)準(zhǔn)精度：1 um

•操作模式：軟、硬、真空接觸和接近

•工藝分辨率：2 um@1 um PR厚度，真空接觸