光刻機(jī)又名：掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)，光刻機(jī)，紫外曝光機(jī)等；
MIDAS為半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商，多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn)，并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域；該公司是目前將光刻機(jī)商品化的公司之一，擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力；并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用；以優(yōu)秀的技術(shù)、工藝和良好的服務(wù)，贏得了用戶的青睞。

MDA-20SA光刻機(jī)產(chǎn)地：韓國(guó)MIDAS公司，唯1能做到圖形化藍(lán)寶石襯底（PSS）光刻機(jī)，高性價(jià)比
型號(hào)：MDA-20SA

MDA-20SA光刻機(jī)

操作簡(jiǎn)單，可編程控制器（PLC）操作，PC控制，圖像采集和數(shù)據(jù)記錄，100多個(gè)程序配方，電動(dòng)操縱桿控制，電動(dòng)變焦顯微鏡和工作臺(tái)，顯微鏡位置控制系統(tǒng)

操縱桿控制，半自動(dòng)

掩模版尺寸規(guī)格，用戶訂制

基板尺寸規(guī)格（大面積），用戶訂制

均勻光束規(guī)格，用戶訂制

紫外線光源：紫外線燈，5 kW

光束波長(zhǎng)350~450 nm

光束均勻度<±7%

365 nm強(qiáng)度5 kW: ~45 mW/?

對(duì)準(zhǔn)方法：操縱手柄控制半自動(dòng)

對(duì)準(zhǔn)精度1 um

工藝模式：軟、硬、真空接觸和接近

分辨率：透鏡 >3 um，反射鏡：>9 um